Mặt nạ phòng độc Restech RM 7200 + Phin M2702S chống virus, vi khuẩn, bụi

Mã sản phẩm: MNP-KR-14

Nhà sản xuất: Restech

Nước sản xuất: Hàn Quốc

Tiêu chuẩn: Tiêu chuẩn Châu Âu, Việt Nam

Chất liệu: Silicone lỏng y tế an toàn, phin lọc hoạt tính

Tính năng: Chống bụi

Môi trường: Môi trường có không khí bị ô nhiễm do bụi , sương

Loại: 2 Phin

Category: Mặt nạ chống độc

Description
Reviews (0)

Đặc điểm sản phẩm

– Hiệu suất lọc 100% phòng được các bệnh lây nhiễm qua hô hấp và cản bụi mịn, siêu bụi mịn 2.5PM, vi khuẩn, virus

– Công nghệ lọc tĩnh điện có thể lọc được đến 100% bụi bẩn qua tấm lọc

– Có than hoạt tính tăng khả năng lọc vi khuẩn và khử mùi rất tốt

– Mặt nạ phòng chống bụi virus được làm từ silicone nên rất mềm mại , độ bám cao chống trơn trượt.

– Không gian thở lớn và có van thở tăng cường lưu thông không khí nhiều hơn , giúp người dùng cảm thấy thoải mái

– Mặt nạ chống bụi đạt tiêu chuẩn KSC của hàn quốc.

– Thiết kế phù hợp với mặt của người châu Á

Môi trường sử dụng Y tế, phòng dịch virus, xây dựng , khai thác , dệt , sản xuất , chế biến gỗ , dược phẩm , điện tử , ô tô sản xuất và các ngành công nghiệp khác nhiều bụi .

– Thời gian sử dụng của phin lọc từ 60 – 90 ngày.

– Sản phẩm có thể rửa, sát khuẩn được, lưu ý khi làm phải bỏ tấm phin lọc ra ngoài.

– Có CO,CQ từ Hàn Quốc

– Đạt tiêu chuẩn về Châu Âu P100

– Lưu ý là sau khi sử dụng hết thời gian hiệu quả của phin lọc thì bạn chỉ cần thay thế tấm phin lọc là có thể tiếp tục sử dụng nên hiệu quả kinh tế rất cao.

– Tấm phin lọc giá chỉ từ 30.ooo/ cái.

– Có CO,CQ từ Hàn Quốc

– Đạt tiêu chuẩn về Châu Âu

– Cấu tạo khóa kép giúp phòng tránh trường hợp phin lọc bị rời ra

– Có nhiều kích thước để lựa chọn phù hợp với khuôn mặt

+ Các loại phin dùng cho mặt nạ RM 7200 :

Phin Lọc Bụi	HCHC + Acid		HCHC+Acid + Amoniac
Phòng bụi	Phòng độc	Kết hợp phòng bụi	Phòng độc	Kết hợp phòng bụi
M2702S	phin-loc-phong-doc-G2912VA	phin-loc-phong-doc-GD2912VAC	phin-loc-phong-doc-G2912T	phin-loc-phong-doc-GD2912TC
Dùng trong môi trường có bụi/ sương/ khói	Dùng trong nơi phát sinh hơi khí độc hữu cơ/ hơi acid	Nơi phát sinh thêm cả bụi	Dùng trong nơi phát sinh hơi khí độc hữu cơ/ hơi acid	Nơi phát sinh thêm cả bụi